• • • 檢查氬氣傳輸管線和壓力。
    • 確認(rèn)靶材安裝正確且未耗盡。
    • 確保靶材的電氣連接良好。
    • 檢查真空室的真空度。

鍍膜不均勻：

• • • 確保樣品旋轉(zhuǎn)和/或傾斜功能正常。
    • 檢查靶材到樣品的距離。
    • 確認(rèn)樣品表面清潔無污染物。

樣品過熱：

• • • 降低濺射功率（電流或電壓）。
    • 縮短濺射時間。
    • 確保磁控濺射頭中的磁體功能正常（如果適用）。

鍍膜后圖像質(zhì)量差（如仍存在充電現(xiàn)象）：

• • • 稍微增加鍍膜厚度。
    • 使用導(dǎo)電膠帶或膠水確保樣品與樣品臺之間的良好電氣接觸。
    • 考慮使用導(dǎo)電性更高的其他鍍膜材料。

靶材不濺射：

• • • 檢查濺射頭的高壓電源。
    • 確保真空度合適。
    • 清潔靶材表面。

污染問題：

• • 徹底清潔濺射室。
  • 使用高純度氬氣。
  • 檢查真空泵是否發(fā)生油反流。