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離子濺射儀
離子濺射儀，一般是用來(lái)給SEM掃描電鏡中非導(dǎo)電樣品鍍膜，使得樣品擁有良好的導(dǎo)電性能，避免產(chǎn)生荷電效應(yīng)，從而能看到更好的電鏡效果圖。我司提供的鍍膜儀有噴金儀和鍍碳儀，以及鍍金鍍碳一體的離子濺射儀。其中噴金儀用的原理即是離子濺射，離子濺射的噴金儀可用于大部分樣品，尤其是對(duì)熱敏感的生物樣品，而鍍碳儀用的則是熱蒸鍍，因?yàn)殄兡み^(guò)程會(huì)產(chǎn)生高溫，所以不適合熱敏感樣品鍍膜。
JY-S100離子濺射儀
JY-S100磁控離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌面小型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
JY-S100 PLUS離子濺射儀
JY-S100PLUS 是一款桌上型冷態(tài)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，標(biāo)配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)，特別適用于各種表面形貌的非導(dǎo)電樣品在掃描電鏡成像中的高質(zhì)量鍍膜，也可滿足電極鍍膜，半導(dǎo)體等材料鍍膜的要求。
Ted Pella 108 Auto離子濺射鍍膜儀
進(jìn)口Ted Pella 108 Auto是一款結(jié)構(gòu)緊湊的可放置于桌面的小型全自動(dòng)鍍膜設(shè)備，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
Ted Pella 108 manua離子濺射儀
進(jìn)口Ted Pella 108?manual是一款結(jié)構(gòu)緊湊的半自動(dòng)桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜，可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶為標(biāo)配）。
Ted Pella 108C鍍碳儀
進(jìn)口Ted Pella 108C是用于掃描電鏡能譜分析的小型桌面型鍍碳儀。108C中使用的高純碳棒可以在高倍條件下得到高質(zhì)量的鍍膜效果。
Ted Pella 108 Auto SE噴金儀
Ted Pella 108 Auto SE是一款帶有大樣品室的離子濺射噴金儀，樣品室尺寸為：直徑150mm x 165mm 高，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。
Ted Pella 208C高真空鍍碳儀
Ted Pella 208C高真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針?lè)治鎏峁└哔|(zhì)量的鍍膜技術(shù)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，可快速抽真空進(jìn)行鍍膜處理，處理周期約10分鐘。
Ted Pella 208HRD高真空離子濺射儀
Ted Pella 208HRD高分辨離子濺射儀為場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡應(yīng)用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm，其作用是對(duì)所鍍薄膜的厚度進(jìn)行精確控制。
JYSC-110離子濺射儀
JYSC-110型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡(jiǎn)單方便，是配合SEM 制樣的儀器。設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空，在 20Pa 真空保護(hù)。同時(shí)，配有專用進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。
JYSC-1000離子濺射儀
JYSC-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩(wěn)定，操作簡(jiǎn)單方便。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，保護(hù)樣品。
JYE100C噴碳儀
JYE100C型小型噴碳儀主要用于掃描電鏡 EDS 樣品鍍導(dǎo)電膜 ，儀器操作簡(jiǎn)單方便，是配合 SEM 制樣的儀器。
離子濺射儀配套靶材
離子濺射儀鍍膜的效果會(huì)受到目標(biāo)樣品相互作用的影響，所以應(yīng)該根據(jù)實(shí)際樣品來(lái)選擇合適的靶材。大多數(shù)濺射材料都具有較高的二次電子（SE）產(chǎn)生率，而有較低原子序數(shù)的濺射材料更適合于樣品的背散射電子（BSE）成像。目前用的比較多的是金靶和鉑靶。金靶濺射后顆粒較大，所以高倍成像更適合用鉑靶在高真空下鍍膜。
鍍碳儀配套碳棒
光譜純的碳棒，雜質(zhì)等于或小于2ppm。可應(yīng)用于TEM，F(xiàn)ESEM，F(xiàn)IB，WDS，EBSD，Microprobe和SEM / EDS。
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提升磁控濺射靶材利用率的實(shí)用方法
1. 優(yōu)化靶材-樣品距離 靶材與樣品之間的距離對(duì)沉積速率和材料利用效率有顯著影響。適當(dāng)縮短該距離可以在保持鍍膜層均勻性的前提下，提高材料沉積在樣品上的比例，減少在設(shè)備內(nèi)壁或腔體表面的無(wú)效沉積。此外，縮短路徑也減少了等離子體中的粒子散射，從而提高沉積效率。 2. 控制膜層厚度 不同應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)膜層厚度的要求存在差異。例如，在電子顯微鏡樣品制備中，鍍膜主要用于消除電荷積累，過(guò)厚的膜反而造成圖像細(xì)節(jié)丟失。通過(guò)合理設(shè)定膜厚，僅滿足實(shí)際需求，可有效延長(zhǎng)靶材壽命。搭配厚度測(cè)控儀使用，可以對(duì)沉積過(guò)程進(jìn)行實(shí)時(shí)控制，實(shí)現(xiàn)材料精細(xì)管理。 3....
離子濺射儀的常見(jiàn)問(wèn)題和故障排除
沒(méi)有鍍膜或鍍膜很?。?檢查氬氣傳輸管線和壓力。 確認(rèn)靶材安裝正確且未耗盡。 確保靶材的電氣連接良好。 檢查真空室的真空度。 鍍膜不均勻： 確保樣品旋轉(zhuǎn)和/或傾斜功能正常。 檢查靶材到樣品的距離。 確認(rèn)樣品表面清潔無(wú)污染物。 樣品過(guò)熱： 降低濺射功率（電流或電壓）。 縮短濺射時(shí)間。 確保磁控濺射頭中的磁體功能正常（如果適用）。 鍍膜后圖像質(zhì)量差（如仍存在充電現(xiàn)象）： 稍微增加鍍膜厚度。 使用導(dǎo)電膠帶或膠水確保樣品與樣品臺(tái)之間的良好電氣接觸。 考慮使用導(dǎo)電性更高的其他鍍膜材料。 靶材不濺射： 檢查濺射頭的高壓電源。 確保真空度合適。...
離子濺射儀鍍膜后樣品還有偽影的避免方法
離子濺射儀鍍膜過(guò)的樣品為什么會(huì)有一些出現(xiàn)一些偽影，影響最終的SEM圖像質(zhì)量呢。一般來(lái)說(shuō)有以下幾點(diǎn)。 充電偽影： 鍍膜厚度不足或鍍膜不連續(xù)會(huì)導(dǎo)致電荷在SEM成像過(guò)程中積累，產(chǎn)生圖像變形、亮點(diǎn)和掃描光柵偏移。避免方法：?確保足夠的鍍膜厚度和連續(xù)性。使用導(dǎo)電的樣品固定介質(zhì)（如導(dǎo)電膠帶、銀膠）有效地將樣品接地。 顆粒感/粗糙度： 鍍膜材料本身的晶粒結(jié)構(gòu)在高放大倍數(shù)下可能會(huì)變得可見(jiàn)，從而掩蓋樣品的精細(xì)特征。避免方法：?對(duì)于高分辨率應(yīng)用，選擇晶粒尺寸更小的鍍膜材料（如鉑、銥）。 過(guò)熱/電子束損傷：...
透射電鏡樣品制備技術(shù)指南：材料科學(xué)篇
作者：孫千 本文轉(zhuǎn)載自公眾號(hào)：老千和他的朋友們。原文地址：https://mp.weixin.qq.com/s/oLe7r8QTg6ZK8FZ09zhk_g 使用透射電鏡（TEM）的第一步是樣品制備，這步驟是確保獲得有價(jià)值TEM結(jié)果的重中之重。制備的TEM樣品一般需滿足以下幾個(gè)基本要求： 1. 保持樣品的原始結(jié)構(gòu)：盡量減少人工痕跡，即使引入也必須可識(shí)別；2. 盡可能?。簶悠泛穸戎辽傩栊∮?00納米，確保電子束能夠穿透；3. 具備物理支撐：以利于樣品架的裝載和取出；4. 具備機(jī)械穩(wěn)定性：避免因震動(dòng)導(dǎo)致圖像缺陷；5....
